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睿励对外开放设备介绍:

1.光谱椭偏仪


名:光谱椭偏仪          
名:Spectroscopic Ellipsometer
    号:M2000XF
    商:J.A. Woollam Co., INC.   
    地:美国
仪器介绍:
椭偏测量技术(Ellipsometry)是一种非破坏光学测量技术,基于利用测试偏振光束测量经样品反射(或透射)后导致的光束偏振态的变化,进而进行分析拟合,得到所需光学信息。椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等;也可被用来监控粗糙多晶表面上的膜层生长,实现均匀镀膜等。在科学研究和工业生产的许多领域中获得广泛地应用。 M2000XF以其旋转补偿专利技术配合高速CCD探测技术,在同类产品中测量速度较快,并拥有高速测量的准确性和重复性,结合先进光学设计及强大的软件功能,使其成为一款功能强大的通用测量工具。
  
光谱范围 193纳米到1000纳米,500个波长
聚焦光斑尺寸 25μm X60μm
入射角 65度
数据采集 高性噪比、采样时间为1到5秒
可测量参数 椭偏:ψ(0-90度)和Δ(0-360度)、反射强度比、退偏比
穆勒矩阵:测量及拟合穆勒矩阵中的11个元素
连续旋转补偿器 旋转速率20Hz
光束偏离<1 arcmin
测量模式 反射式、入射角固定
水平测量平台 自动Z轴高度,分辨率1μm
300mmXY自动平移台,分辨率2.5μm
360度自动旋转台,分辨率0.005度
最大样品尺寸:300mm直径
最大样品厚度:15mm


2.原子力显微镜

    名:原子力显微镜                      
    名:AFM (Atomic Force Microscopy)
      号:Dimension Icon
      商:布鲁克纳米科技公司(BRUKER NANO INC.)                        
      地:美国
仪器  介绍:
原子力显微镜(AFM)使用对微弱力非常敏感的弹性悬臂上的针尖对样品表面作光栅式扫描,通过检测针尖在样品表面信号变化得到样品表面信息。其能够在大气环境下准确地观测样品表面纳米尺度的三维形貌,如样品表面粗糙度、沟道深度和宽度等;同时可以对样品表面进行纳米尺度的刻蚀和加工。在半导体技术研发、工艺改进、品质控制和失效分析等方面有广泛应用。此系统Dimension Icon为目前市场上技术成熟的商品化型号, 跟其他同型号的仪器相比,其高分辨率和低噪音水平,软件功能的强大和可扩展性都是业内一流。
    
测量模式 • 接触模式 (Contact Mode)
• 轻敲模式  (Tapping Mode)
• 相位成像模式(Phaseimaging)
• 抬起模式  (Lift Mode)
• 横向力/摩擦力显微镜 (LFM)
扫描视场范围 最大:90μm x 90μm x 10μm (X,Y,Z)
噪声水平 ≤0.3 Å
Z方向噪声水平 开环控制< 0.3Å
闭环控制< 0.35 Å(图象测试)
XY方向噪音水平 开环控制< 0.1nm
闭环控制< 0.15nm
测量平台 210mm真空样品台(可放置300mm硅片)
可扫描测量面积180mm x 150mm

3. 半导体检查显微镜介绍


    名:奥林巴斯MX61L 半导体检查显微镜                
    名:Olympus MX61L Semiconductor Inspection Microscope
      号:MX61L
      商:奥林巴斯                      
      地:日本
仪器  介绍:

Olympus(奥林巴斯)生产的MX61L半导体检查显微镜,具有高倍率(目视可达10000倍,电子成像可达50倍),大数值孔径0.9,可通过明暗视场法,保证卓越的图像分辨率和鲜明度。切换物镜时自动调节连动的亮度光圈等,实现了舒适的检查环境。配备14×12英寸载物台,能应对大型样本,如300mm硅片。配备了PC界面,可以读取保存电子图像,另带视频测量系统,可对样本细节进行各种规格的测量。


指标:
显微镜型号 MX61L
最大Wafer尺寸 300mm
光学系统 UIS2光学系统(无限远校正)
照明 透射,100W卤素灯泡
明暗场 明场,暗场Optional
对焦 手动
目镜 100x
物镜 电动五孔转盘,现有物镜 1.25x, 5x, 20x, 50x, 100x
数值孔径 最高可达0.9
成像透镜 0.5x
载物台行程 14×12英寸右下手柄,356(X)×305(Y)mm
外形尺寸 710(W)×843(D)×507(H)mm
相机 Panasonic
重量 51kg
附件 显微视频测量系统